挑战ASML 佳能宣布研发3D光刻机明年上市

挑战ASML 佳能宣布研发3D光刻机明年上市



近日，据外媒报道，佳能正在内部开发“三维（3D）”技术的光刻机，该3D光刻机将应用于人工智能（AI）等使用的顶尖的半导体领域。据悉，该3D光刻技术将通过堆叠多个芯片的方式来实现提高半导体性能。佳能这款3D光刻机产品最早将于明年上半年上市。



目前外媒曝光的信息来看，该光刻机的光刻面积是现有产品4倍面积，可满足AI领域所需的大型半导体的生产需求。目前，大部分光刻机采用通过缩小电路精细程度来提高集成度的“微细化”路线，速度放缓，佳能将计划开拓极具增长潜力的3D光刻领域，在光刻领域来赢得更多的市场份额。



其实大家关注光刻机领域中的ASML比较多，而佳能和尼康其实一直在光刻领域有着不错的表现，只是很少报道和宣传，真的是闷声发大财，光刻机的日系双雄都有着多年的技术和市场沉淀，虽然依然和ASML有一定的差距，但他们手中依然掌握大量核心专利技术。